產(chǎn)品描述
注冊信息
研發(fā)濺射源(HV 或UHV)
AJA ***際公司從1991 年來已經(jīng)研發(fā)了上百種不同類型的磁控濺射源,其中包括許多定制化濺射源。根據(jù)基片幾何形狀,腔室結(jié)構(gòu),靶材材料組成和薄膜規(guī)格的不同需求可選擇不同型號濺射源,如矩形,圓形,塔式和圓柱形。詳情如下或聯(lián)系AJA.
主要特點(diǎn)
Modular magnet array isolated from cooling water
模塊化磁鐵組合,與冷卻水隔離
Magnetic material sputtering of thicker targets
更厚的靶材磁性材料濺射
Easy removal of larger magnetic targets
易于更換更大磁性靶材
Integral gas injection and chimney system
內(nèi)部注氣和氣路管道系統(tǒng)
Efficient target cooling with no vacuum/water seals
高效靶材冷卻,無真空水密封
Clamped target mounting for optimal heat transfer
靶材夾緊裝置,優(yōu)化熱傳遞
RF & DC compatibility
RF&DC 兼容
Rugged HV construction
加固HV 結(jié)構(gòu)
Operating pressure: (0.3 mTorr - 1.0 Torr)
操作氣壓(0.3 mTorr - 1.0 Torr)
In-situ tilt or manual tilt for optimum uniformity
內(nèi)置偏轉(zhuǎn)或手動偏轉(zhuǎn),獲得***佳均勻性
Custom versions available
可定制化型號
Source/power supply/target packages available
濺射源/電源/靶材包裝
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